Mikko Ritala: Suomalaistutkimus kutisti elektroniikan
Mikko Ritala on atomikerroskasvatuksen johtavia tutkijoita maailmassa. Keksintöä hyödynnetään monella alalla, esimerkiksi entistä pienemmän elektroniikan valmistuksessa.
Turun yliopistossa kemiaa opiskellut Mikko Ritala siirtyi 1990-luvun alkupuolella Helsingin yliopistoon tekemään väitöskirjaa. Tutkimuskohteena oli tuolloin vain varsin pienissä tiedepiireissä tunnettu atomikerroskasvatus.
Nyt 25 vuotta myöhemmin yhden atomikerroksen tarkkuudella ohutkalvoja tekevää valmistusmenetelmää hyödynnetään useilla teollisuuden aloilla. Ritala on puolestaan kansainvälisesti siteeratuimpia tutkijoita alalla, jossa suomalaisten tiedemiesten panos on ollut merkittävä.
”Me kemistit olemme keskittyneet etsimään prosessiin parhaat kemialliset yhdisteet lähtöaineiksi. Niiden avulla kaasumaiset molekyylit tarttuvat reaktorissa esimerkiksi lasi- tai piilevyn pintaan atomikerros kerrallaan”, Ritala sanoo.
Menetelmällä voidaan tehdä nanometrin paksuisia ohutkalvoja. Suuruusluokkaa kuvaa se, että miljoonasta kalvosta syntyisi millimetrin kerros.
Maailmalla menetelmä tunnetaan nimellä ALD eli atomic layer deposition. Varsinaisen läpimurron menetelmä teki, kun puolijohdevalmistaja Intel alkoi vuonna 2008 tuottaa sen avulla entistä pienempiä ja tehokkaampia mikroprosessoreita.
Elektroniikkateollisuuden ohella atomikerroskasvatusta käytetään esimerkiksi aurinkokennojen pinnoitukseen ja ruosteenestoon. Kalevala Koru pinnoittaa menetelmällä hopeakorunsa, mikä estää niiden tummentumisen.
Teksti: Matti Remes
Kuva: Veikko Somerpuro
